—GERAL—

O SmartLab é o mais novo difratômetro de alta resolução disponível atualmente no mercado. A mais nova característica é o software SmartLab Guidance, que proporciona uma interface inteligente ao usuário, permitindo conduzi-lo através das complexidades de cada experimento. É como ter uma expert ao seu lado.

 
Este difratômetro incorpora um sistema com um goniômetro de alta resolução, ótica cross beam (CBO), um braço  in-plane, e um gerador de anodo rotatório de 9.0 kW opcional.
 
Acompanha um sistema de alinhamento, controlado por computador, com um sistema ótico totalmente automático. O software torna fácil a troca entre tipos de hardware, assegurando que a sua complexidade nunca atrase sua pesquisa.
 

 
—CARACTERÍSTICAS—
 
. Alinhamento totalmente automático, controlado por computador  
. Braço de difração in-plane opcional, para medições sem reconfiguração 
. Geometrias de foco e feixes paralelos sem reconfiguração  
. Capacidades de SAXS
 

—ESPECIFICAÇÕES—

Gerador de tubo selado / Saída máxima 3kW
. Voltagem e corrente do tubo - 20 - 60 kV; 2 - 60 mA
. Estabilidade Menor que  ±0.005% com variação de energia de entrada de 10%
. Alvo Cu (outros: opcional)
. Tamanho do Foco 0.4X12 mm linha/ponto (outros: opcional)
. Cerco a radiação Proteção segura com mecanismo de abrir/fechar anti-falhas

Gerador de anodo rotatório
. Saída máxima 9kW
. Voltagem e corrente do tubo - 20 - 45 kV; 10 - 200 mA
. Estabilidade - Menor que  ±0.005% com 10% de variação de energia de entrada
. Alvo - Cu (outros: opcional)
. Tamanho do Foco - 0.4X8 mm linha/ponto 
. Cerco à radiação - Proteção segura com mecanismo de abrir/fechar anti-falhas

Goniômetro
. Modo Varredura - θs/θd acoplado ou θs, θd- independentemente controlados por um codificador ótico
. Raio do Goniômetro 300 mm
. Tamanho mínimo do passo - 0.0001°

Eulerian Cradle
. χ: -5 to 95°/0.001° step
. φ:  -720 to 720°/0.002° step
. Ζ: -4 to 1 mm/0.0005 mm step 
. Estágios X, Y opcionais: 20 mm/0.0005 mm step, 100 mmφ/0.0005 mm step, 150 mmφ/0.0005 mm step
. Estágio Rx, Ry opcional:  -5 to 5°/0.002° step
. Tamanho da amostra - Max. 200 mmφ x 6 mm de espessura (24 mm de espessura, opcional)

Ótica
. Ótica Incidente - CBO, monocromador Ge de 2 e 4-bounce, fenda automática divergente variável
. Ótica receptora - Fenda dispersiva automática PSA, Analisador Ge 2-bounce, fenda receptora automática variável

Detector
. Contador de cintilação - Cintilador NaI, fotomultiplicador com pré-amplificador
 

—ACESSÓRIOS—

Sistema detector sensível à posição de alta velocidade D/teX 
O D/teX Ultra é a nova geração em coleta de dados de DRX em alta velocidade. Os avanços na tecnologia dos semicondutores, aliados aos métodos de processamento de dados eletrônicos, fazem do D/teX Ultra o mais rápido e flexível detector de faixa de silicone do mundo.

Estágio de mapeamento?
Permite o posicionamento xy da amostra no feixe de Raios X. Translações de 20 mm, 50 mm, e 75 mm estão disponíveis.

Posição inclinada RxRy?
Permite o posicionamento xy da amostra no feixe de Raios  X. Translações de 20 mm, 50 mm, e 75 mm estão disponíveis.

—APLICAÇÕES—

 
. Análise da reflexividade conjunta de raios X (XRR) e análise dispersiva do pequeno ângulo de incidência razante, de filmes de partículas nano de platina    
. Liga com base em alumínio preparada em diferentes condições: usando um estágio XY como um trocador automático de amostras 
. Análise da distribuição de tamanho de nanopartículas de Ceria (CeO2)  
. Caracterização de um filme epitaxial de inN em um substrato de safira por mapeamento do espaço recíproco de Raios X e análise da curva de oscilação 
. Composição e espessura de filmes de liga epitaxial 
. Determinação da espessura e aspereza de filmes de polímeros por reflectividade de Raios X 
. Avaliação de filmes finos de cobalto magnéticos em um hard disk
. Avaliação da constante dielétrica de isolamento  (low-K) entre as camadas de filmes finos, utilizando o   espalhamento de raios X com ângulo rasante. 
. Avaliação de filmes finos pelo método de reflectividade de Raios X 
. Avaliação da orientação molecular de um filme fino de ftalocianina Cu em susbtratos de vidro processados por fricção 
. Avaliação de uma estrutura de cristal de uma camada de gravação de DVD 
. Avaliação da cristalinidade de um filme fino de GaN pelo método de curva de oscilação de Raios X 
. Avaliação da nova geração de mídia de gravação magnética (FePt) por difração de Raios X in plane
. Avaliação da estrutura de uma constante dielétrica alta de um filme fino 
. Avaliação de nanocristais ZnO
. Análise de distribuição de partículas (size pore) em filmes de sílica nano-porous, por raios X de baixo ângulo, ângulo rasante.
. Difração de raios X de incidência razante de filmes finos de irídio em Si 
. Identificação e quantificação de alta velocidade da Hematita e Magnetita 
. Análise combinada in-plane e out-plane do ZnO na safira
. Preferred orientation of carbon nanotubes in polyethylene
. Análise quantitativa por raios X dos pós Gd e mar 
. Análise da curva de oscilação de AlGaN/GaN em substrato de safira {1010} m-plane 
. Análise simultânea de espessura, densidade e aspereza da superfície de filmes 
. Análise de textura de ligas de NiW 
. Filmes finos texturizados  
. Análise da refletividade  do Raios X para filmes finos 
Rigaku
Desde a sua criação, a Rigaku está à frente da tecnologia ligada à instrumentação analítica e industrial. Contando com as maiores inovações nesta área, a Rigaku é líder mundial em difração e espectrometria, cristalografia de raios X para proteína e pequenas moléculas, metrologia de semicondutores, automação, criogênicos e raios X ópticos, espectroscopia Raman, entre outros.